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        半导体行业为什么离不开超純水設備？半導體行業的發展程度是衡量一個國家科技發展水平的核心指標。發展半導體産業，必然少不了電子芯片的生産制造。制造芯片的過程十分複雜，關鍵的步驟是沈積、光刻膠塗覆、刻蝕、離子注入和封裝。而這些步驟都離不開超純水，因爲芯片生産過程需要超純水進行清洗。

        芯片生产过程中需要用的工艺清洗用水，得用几近绝缘的水质，被称作超纯水，出水电阻率达到18Ω .cm左右。除電阻率，半導體生産用水對如微粒子、 TOC、溶解氧等指標也會有相應要求。那麽指標要求這麽高的超純水是如何制備出來的呢？自然界中不存在超純水，要制備這種超純水，就需要將自然水通過合適工藝處理而成。

      半导体超純水設備并不只是一种固定工艺系统，而是很多水处理工艺模块的灵活组合~包括預處理過濾部分、RO反滲透技術、EDI連續電解除鹽技術和抛光混床工藝等。

工藝流程主要包括：

水源進水 —— 原水储水箱  ——  多介质过滤器 —— 活性炭过滤器 —— 阻垢装置 —— 5 微米精密过 滤器 —— 双级反渗透纯水机组 —— 反渗透产水储水箱 —— EDI 超纯水制水 机组 —— 超纯水产水储水箱 

（可根據行業生産要求，還會配置抛光混床，中間水箱等，根據客戶需求來定制方案）